شارپ ادعا می کند که تکنولوژی plusmacluster به رشد مو ها کمک می کند

به گزارش کلیک، شارپ ادعا کرده است که تکنولوژی یون Plasmacluster این شرکت که قبلا برای ضد عفونی کردن و رفع بوی بد هوا طراحی شده است، می تواند به رشد موها در افراد کمک کند. این ادعا باعث می شود که شرکت های الترونیکی نگاه جدیدی به صنعت زیبایی داشته باشند.

این شرکت امروز پنج شنبه ۱۳ آبان ماه سال ۱۳۹۵ شمسی اعلام کرده است که مطالعات انجام شده توسط محققان این شرکت نشان داده است که تکنولوژی یون Plsmacluster می تواند به توانایی به پوست سر برای حفظ رطوبت بیشتر کمک کند که می تواند باعث شود محیط مناسب تری برای رویش و رشد موها ایجاد کند.

این مطالعه بر روی ۱۱۵ داوطلب از رده های سنی ۲۰ تا ۷۰ سال انجام شده است. در این مطالعه در حدود دو سانتی متر از موی اطراف سر از سمت چپ تا سمت راست سر افراد تراشیده شده بود. بخش تراشیده شده سمت راست سر این افراد روزانه در حدود ۲۰ دقیقه در معرض یون های Plusmacluster قرار می گرفته است در حالی که بخش تراشیده شده سمت چپ سر این تحت هیچ گونه یونی قرار نمی گرفته است.

تعداد موهای رشد کرده در بخش تراشیده شده سمت راست سر این افراد در حدود ۵/۲ برابر بیشتر از تعداد موهای رشد کرده در بخش تراشیده شده سمت چپ سر این افراد بوده است.

مطالعه دیگری در همین زمینه بر روی حدود ۵۹ زن از رده سنی ۴۰ تا ۶۳ سال انجام شده است. در این مطالعه پوست سر  نیمی از این زنان که موهای آن تراشیده نشده است در طول ۱۲ هفته روزانه در حدود ۵ دقیقه در معرض یون های Plasmacluster قرار می گرفته است. میزان چربی پوست سر این افراد بسیار بیشتر از چربی سر زنانی که در معرض این یون های قرار نگرفته اند، کاهش یافته است.

همچنینی بنا بر گفته های این شرکت با استفاده ا این تکنولوژی در حدود ۶۴ درصد از باکتری های پوست سر که باعث ایجاد شوره و خارش پوست سر می شوند کاهش یافته است.